
等離子體是物質的一種存在狀態,通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態存在,如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存在下列物質:處于高速運動狀態的電子;處于激活狀態的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等,但物質在總體上仍保持電中性狀態。
在真空腔體里,注入介質氣體、通過射頻電源起輝產生高能量的等離子體。等離子體轟擊被清洗物表面,與有機污染物發生化學及物理作用,形成揮發性化合物,隨工作氣體排出,達到清洗的目的。
等離子清洗在半導體封裝中的應用:
○ 晶圓清洗:清除殘留光刻膠;
○ 封裝點銀膠前:使工件表面粗糙度及親水性大大提高,有利于銀膠平鋪及芯片 粘貼,同時可大大節省銀膠的使用量,降低成本;
○ 壓焊前清洗:清潔焊盤,改善焊接條件,提高焊線可靠性及良率;
○ 塑封:提高塑封料與產品粘結的可靠性,減少分層風險;
○ BGA基板清洗:在BGA貼裝前對PCB上的Pad進行等離子體表面處理,可使Pad表面達到清潔、粗化和活化的效果,極大的提高了BGA貼裝的一次成功率;
○ FlipChip引線框架清洗:經等離子體處理可達到引線框架表面超凈化和活化的 效果,提高芯片的粘接質量。
等離子清洗機產品規格書:
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項目 |
HTM-6023 |
HTM-6025 |
HTM-6041 |
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工作 腔體 |
清洗平臺 |
2個 |
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真空腔 |
1個 |
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真空腔尺寸 |
458mm×308mm×30mm |
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工作軌道數量 |
4軌(標準) |
5軌(定制) |
6軌(定制) |
5軌×2列 |
4軌(標準) 5軌(定制) |
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單次片式 清洗產品數量 |
4條 |
5條 |
6條 |
10條 |
4條 |
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適應產品規格 |
長 mm |
158-300 |
158-300 |
158-300 |
153 |
158-300 |
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寬 mm |
25.4-100 |
25.4-70 |
25.4-54 |
40-72 |
25.4-100 |
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工藝 特性 |
射頻功率 |
50-500W可調 |
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真空度 |
>10pa |
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氬氣流量 |
5-30ml/min |
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清洗時間 |
依據產品具體設定 |
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清洗效果判別方法 |
水滴角測定儀 |
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清洗效果 |
水滴角<15° |
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產品載具尺寸mm |
308×108×155 |
308×80×155 |
308×80×155 |
160×80×153 |
308×108×155 |
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產品載具步距 |
≥2.54mm,可設定 |
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產品進料/收料方式 |
自動升降,自動進、出料,產品片式清洗后,回到清洗前的存放位置。 |
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UPH (100Pa,射頻5S) |
576條/小時 |
720條/小時 |
864條/小時 |
1000條/小時 |
576條/小時 |
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更換品種調節點 |
手動調節三處 |
全自動 一鍵切換 |
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設備 配置 |
上下料 |
左進左出,自動升降,清洗后自動回原層位 |
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清洗送收料 |
高效雙盤交互式防過載自動送收料 |
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真空腔電極 |
平行電極板結構 |
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控制系統 |
PC控制+PLC控制 |
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機械標準件 |
SMC氣動元件+YASKAWA電機+SMC電缸+臺灣上銀直線導軌+MISUMI標準件+陶瓷導軌 |
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電器元件 |
PC+OMRON PLC+伺服+SCHNEIDER電氣元件 |
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真空泵 |
KASHIYAMA干泵,2Pa,600L/min |
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射頻電源 |
1000W 13.56MHz |
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信息化 配置 |
清洗參數 |
20段工藝參數預先設定,一鍵調用 |
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運行數據 |
實時顯示 |
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清洗記錄 |
實時記錄 |
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報警日志記錄 |
可記錄,可查詢,可輸出 |
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設備管理系統聯網 |
選配 |
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與MES系統聯網 |
選配 |
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設備主要用途及特點 |
用途 |
適用于規模大、機臺多的生產線進行上芯、壓焊、塑封產品的框架及基板清洗。 |
適用于LED或短產品全制程清洗。 |
適用于規模大、機臺多的生產線進行上芯、壓焊、塑封產品的框架及基板清洗。 |
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動力配置 |
供電電源 |
AC220V 50Hz~60Hz 32A四孔插頭 5KW |
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壓縮空氣 |
4-6bar,快插口徑ø8mm |
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氮氣 |
4-6bar,快插口徑ø8mm 99.99% |
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氬氣 |
2-4bar,快插口徑ø8mm 99.9% |
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排氣 |
600L/MIN,φ25mm |
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重量 |
820KG |
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設備外形尺寸 長×寬×高 |
1670mm×1100mm×2010mm |
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